当前位置:首页>>知识产权成果

包括氮化镓功率晶体管的单片式组件

发布时间:2025-09-05 12:52:06 人气:14

包括氮化镓功率晶体管的单片式组件

专利类型:

发明授权

申请(专利)号:

CN202010561803.X

申请日:

2020-06-18

授权公告号:

CN112117271B

授权公告日:

2025-09-05

申请人:

意法半导体应用有限公司; 意法半导体(图尔)公司

地址:

德国阿什海姆

发明人:

M·罗维瑞; A·伊万; M·萨德纳; V·斯卡尔帕

专辑:

工程科技Ⅱ辑

专题:

工业通用技术及设备

主分类号:

H10D84/00

分类号:

H10D84/00;H10D84/05;H02M1/00;H02M1/08;H02M1/32

国省代码:

DE0BYKEH

页数:

19

代理机构:

北京市金杜律师事务所

代理人:

董莘

优先权:

2019-06-19 FR 1906589

主权项:

1.一种电子组件,包括:氮化镓衬底;第一连接端子和第二连接端子,形成在所述氮化镓衬底上;场效应功率晶体管,形成在所述氮化镓衬底上并且包括栅极、源极和漏极;第一肖特基二极管,形成在所述氮化镓衬底上,并且被串联耦合在所述第一连接端子与所述场效应功率晶体管的所述栅极之间;以及第二肖特基二极管,形成在所述氮化镓衬底上,并且被串联耦合在所述第二连接端子与所述场效应功率晶体管的所述栅极之间,其中所述第二肖特基二极管经由所述第二连接端子耦合到第一电容器,并且其中所述第一电容器,连接在所述第二连接端子和所述场效应功率晶体管的所述源极之间。

摘要:

单片式组件包括场效应功率晶体管、以及在氮化镓衬底内部和顶部的至少一个第一肖特基二极管。

查看法律状态
相似专利
本领域科技成果与标准
  • 科技成果

  • 相关标准

科技成果1

研究与应用
  • 本专利研制背景

  • 本专利应用动态

  • 所涉核心技术研究动态

期刊40

共 4 页     1234

硕博15

共 2 页     12

会议4

报纸1


XML地图 | 联系我们
Copyright © 2023 四川博新智数科技研究院 All Rights Reserved.
蜀ICP备2024074801号-1 电话:400-827-9521 信箱:ISTAER@126.com