用于等离子体辅助低真空带电粒子显微术的方法和系统
发布时间：2025-07-18 13:05:36 人气：10
用于等离子体辅助低真空带电粒子显微术的方法和系统
专利类型：
发明授权
申请(专利)号：
CN202110285849.8
申请日：
2021-03-17
授权公告号：
CN113495083B
授权公告日：
2025-07-18
申请人：
FEI 公司
地址：
美国俄勒冈州
发明人：
J·比肖普; D·托通简; C·埃尔巴达维; C·罗波; M·托思
专辑：
工程科技Ⅰ辑
专题：
材料科学
主分类号：
G01N23/2251
分类号：
G01N23/2251;H01J37/28;H01J37/32
国省代码：
US0OR000
页数：
22
代理机构：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人：
钟茂建;周学斌
优先权：
2020-03-18 US 16/823140
主权项：
1.一种用于对样品进行成像的方法,包含：在检测空间中提供气体；在所述检测空间中提供磁场；用带电粒子束照射所述样品,同时在所述检测空间中提供等离子体,其中所述样品位于所述检测空间中压力小于0.05托的样品室内；检测响应于所述照射而从所述样品发射到所述检测空间中的带电粒子；以及基于检测的带电粒子形成样品的图像。
摘要：
用于等离子体辅助低真空带电粒子显微术的方法和系统。本公开提供了用于在低真空下用带电粒子束对样品进行成像的各种方法和系统。在检测器的检测区域中提供磁场。在所述检测区域中提供气体和等离子体,同时检测从所述样品发射的带电粒子。基于检测的带电粒子形成样品图像。
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